PVD鍍膜可以在真空環(huán)境下進(jìn)行，這項技術(shù)稱(chēng)為PVD真空鍍膜。金屬在真空環(huán)境下與各種氣體產(chǎn)生綜合作用形成等離子體，經(jīng)過(guò)加速后，等離子體涌向被鍍工件表面，形成牢固的膜層。這層膜細密均勻，結合力強，硬度高，防腐耐磨，具有良好的導電性和自潤滑性能，同時(shí)色澤豐富多樣。 　　而且，由于PVD真空鍍膜是在真空環(huán)境下進(jìn)行，而真空中的大物分物質(zhì)已被排出，所以鍍膜的過(guò)程受到外界干擾的影響就很小，顏色就不會(huì )雜亂，也沒(méi)有膜層脫落的后顧之憂(yōu)。

真空鍍膜是真空應用領(lǐng)域的一個(gè)重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎，利用物理或化學(xué)方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。簡(jiǎn)單地說(shuō)，在真空中把金屬、合金或化合物進(jìn)行蒸發(fā)或濺射，使其在被涂覆的物體（稱(chēng)基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法，稱(chēng)為真空鍍膜。

真空鍍膜是真空應用領(lǐng)域的一個(gè)重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎，利用物理或化學(xué)方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。簡(jiǎn)單地說(shuō)，在真空中把金屬、合金或化合物進(jìn)行蒸發(fā)或濺射，使其在被涂覆的物體（稱(chēng)基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法，稱(chēng)為真空鍍膜。